特許

J-GLOBAL ID：201103052864928351

レジストパターンコーティング剤及びレジストパターン形成方法

発明者： 藤原 考一 ,  三田 倫広 ,  柿澤 友洋 ,  堀 雅史
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (5件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  菅野 重慶 ,  佐藤 博幸 ,  小池 成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-180855
公開番号（公開出願番号）：特開2011-033884
出願日： 2009年08月03日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：

【課題】微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成することができるレジストパターン形成方法に用いられるレジストパターンコーティング剤を提供すること。【解決手段】水酸基を有する樹脂と、架橋剤と、溶媒と、含窒素化合物と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

水酸基を有する樹脂と、架橋剤と、溶媒と、含窒素化合物と、を含有するレジストパターンコーティング剤。

IPC (2件)：

G03F 7/40 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/40 502 ,  G03F7/40 511 ,  H01L21/30 575 ,  H01L21/30 502C

Fターム (5件)：

2H096AA25 ,  2H096HA02 ,  2H096HA05 ,  5F046AA11 ,  5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-082967   出願人：JSR株式会社
• レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの製造方法、及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-240082   出願人：富士通株式会社
• レジスト変性用組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-115973   出願人：信越化学工業株式会社