特許
J-GLOBAL ID：201103053622524627

導電性膜形成用組成物および導電性膜の形成方法

発明者：
下田 達也

下田 達也 について

, 
李 金望

李 金望 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について


代理人 (3件)： 大島 正孝 ,  勝又 秀夫 ,  白石 泰三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-098200
公開番号（公開出願番号）：特開2011-228178
出願日： 2010年04月21日
公開日（公表日）： 2011年11月10日
要約：
【課題】ストロンチウム-ルテニウム酸化物系導電性膜を形成することができ、長期安定性およびプロセス性に優れる導電性膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】上記導電性膜形成用組成物は、ストロンチウムのカルボン酸塩とルテニウムのカルボン酸塩と溶媒とを含有する組成物であって、前記溶媒がケトンおよびカルボン酸よりなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする。上記導電性膜形成用組成物は、前記溶媒がカルボン酸を含有するものであることが好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ストロンチウムのカルボン酸塩と ルテニウムのカルボン酸塩と 溶媒と を含有する組成物であって、 前記溶媒がケトンおよびカルボン酸よりなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする、導電性膜形成用組成物。
IPC (4件)：
H01B 13/00 ,  H01B 5/14 ,  H01B 1/20 ,  C01G 55/00
FI (4件)：
H01B13/00 503C ,  H01B5/14 Z ,  H01B1/20 Z ,  C01G55/00
Fターム (12件)：
4G048AA05 ,  4G048AB02 ,  4G048AC04 ,  4G048AD02 ,  4G048AE08 ,  5G301DA22 ,  5G301DA42 ,  5G301DD02 ,  5G301DE01 ,  5G307GA08 ,  5G307GB02 ,  5G307GC02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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