特許
J-GLOBAL ID：201103053794729247

光水分解反応用光触媒および光水分解反応用光触媒の製造方法

発明者：
堂免 一成

堂免 一成 について

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前田 和彦

前田 和彦 について

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熊 諳珂

熊 諳珂 について

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寺西 利治

寺西 利治 について

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吉永 泰三

吉永 泰三 について

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瀬戸山 亨

瀬戸山 亨 について

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仮屋 伸子

仮屋 伸子 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について

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国立大学法人 東京大学

国立大学法人 東京大学 について

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国立大学法人 筑波大学

国立大学法人 筑波大学 について


代理人 (3件)： 星野 哲郎 ,  山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-041040
公開番号（公開出願番号）：特開2011-173102
出願日： 2010年02月25日
公開日（公表日）： 2011年09月08日
要約：
【課題】光水分解反応用の触媒であって、同一粒子上に酸化反応用および還元反応用双方の助触媒を併せ持ち、光照射下における光水分解反応速度を飛躍的に増大させることができる、効率的で工業的に有利な水分解反応用光触媒を提供する。【解決手段】光半導体(10)、酸化反応助触媒(20)および還元反応助触媒(30)を備え、光半導体(10)に酸化反応助触媒(20)および還元反応助触媒(30)が担持されてなる光水分解反応用光触媒であって、光半導体(10)が、可視光領域の光を利用するものである光水分解反応用光触媒(100)。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光半導体、酸化反応助触媒および還元反応助触媒を備え、該光半導体に該酸化反応助触媒および還元反応助触媒が担持されてなる光水分解反応用光触媒であって、 前記光半導体が、可視光領域の光を利用するものである光水分解反応用光触媒。
IPC (3件)：
B01J 27/24 ,  B01J 35/02 ,  C01B 3/04
FI (3件)：
B01J27/24 M ,  B01J35/02 J ,  C01B3/04 A
Fターム (50件)：
4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA48A ,  4G169BB02A ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB06A ,  4G169BB09A ,  4G169BB11A ,  4G169BB11B ,  4G169BC08A ,  4G169BC09A ,  4G169BC15A ,  4G169BC17A ,  4G169BC17B ,  4G169BC18A ,  4G169BC23A ,  4G169BC26A ,  4G169BC30A ,  4G169BC34A ,  4G169BC35A ,  4G169BC35B ,  4G169BC38A ,  4G169BC42A ,  4G169BC44A ,  4G169BC49A ,  4G169BC50A ,  4G169BC53A ,  4G169BC56A ,  4G169BC57A ,  4G169BC58A ,  4G169BC58B ,  4G169BC62A ,  4G169BC62B ,  4G169BC65A ,  4G169BC68A ,  4G169BC69A ,  4G169BC70A ,  4G169BC70B ,  4G169BD06A ,  4G169BD06B ,  4G169CC33 ,  4G169EB18Y ,  4G169FC08 ,  4G169HA02 ,  4G169HB06 ,  4G169HC02 ,  4G169HD02 ,  4G169HE09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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