特許

J-GLOBAL ID：201103054526792790

露光方法

発明者： 姜 帥現 ,  東川 巌 ,  井上 壮一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (7件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  中村 友之 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-060708
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260689
特許番号：特許第3929635号
出願日： 1999年03月08日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 原版を複数回露光することで被転写基板上に複数個のショットによるパターンを形成する露光方法において、 前記被転写基板上における各ショット内のパターン位置の倍率及び直交度などの線型誤差とショット毎の位置の倍率及び直交度などの線型誤差が各成分で等しくなるように、前記被転写基板を載せるステージの移動距離と方向を補正することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 514 B ,  H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-104922   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-281705   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-121940   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-140640
  
• 位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016116   出願人：株式会社ニコン