CVD装置および磁気記録媒体の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：岡田数彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-025038
公開番号（公開出願番号）：特開2000-226658
特許番号：特許第3930183号
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】製膜室内で真空条件下に加熱されたフィラメント状のカソードとアノードとの間の放電により製膜原料ガスをプラズマ状態とし、そして、マイナス電位により上記のプラズマを基板表面に加速衝突させて製膜する、熱フィラメント-プラズマCVD装置において、前記製膜室内の基板に対向する少なくとも一方の位置にロート状の形状を有するアノードを配置して成り、当該アノードは、その内周面の中央部付近でカソードを包囲し且つその最大内径側を基板に向けていることを特徴とする熱フィラメント-プラズマCVD装置。

IPC (3件)：