特許
J-GLOBAL ID:201103056737288047

ナノオーダサイズのセラミックス又はセラミックス前駆体の三次元構造体及びLPD法による作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 梶 良之 ,  須原 誠
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-298161
公開番号(公開出願番号):特開2004-131338
特許番号:特許第4314360号
出願日: 2002年10月11日
公開日(公表日): 2004年04月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 三次元構造体が形成された型を、酸化物又は水酸化物からなるセラミックス又はセラミックス前駆体を析出することができるセラミックス析出反応液に浸漬し、前記型表面にLPD(Liquid Phase Deposition)法によってセラミックス又はセラミックス前駆体を析出、積層させた後、前記型から前記LPD法によって析出、積層したセラミックス又はセラミックス前駆体を取り外すことによって、前記型に形成された三次元構造体と凹凸が逆のセラミックス又はセラミックス前駆体の三次元構造体を形成する方法であって、 前記型が、フォトリソグラフィー法もしくはFIB法により三次元構造体が形成された金属もしくは無機材料からなる型、又は、フォトリソグラフィー法もしくはFIB法により三次元構造体が形成された板部材の表面に押し当てることにより三次元構造体が転写された樹脂からなる型であり、 セラミックス又はセラミックス前駆体の析出、積層の途中で、前記セラミックス析出反応液の種類を変更することにより、多組成積層組織を有するセラミックス又はセラミックス前駆体の三次元構造体を形成することを特徴とするナノオーダサイズのセラミックス又はセラミックス前駆体の三次元構造体のLPD法による作製方法。
IPC (2件):
C01G 23/00 ( 200 6.01) ,  C04B 35/622 ( 200 6.01)
FI (2件):
C01G 23/00 Z ,  C04B 35/00 E
引用特許:
審査官引用 (7件)
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引用文献:
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