真空処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：村松貞男 , 橋本良郎 , 河野哲 , 中村誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-502151
特許番号：特許第4547119号
出願日： 2000年06月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理基板を載置するステージを有する真空処理室と、この真空処理室の周壁に設けられ、前記ステージに対して被処理基板を搬入・搬出する搬送口とからなり、前記真空処理室内でプラズマを発生させ、前記ステージ上の被処理基板をプラズマ処理する真空処理装置において、加熱機構を有し、前記ステージ上に対して前記被処理基板を外部と受け渡しを行う際には、退避し、前記真空処理室内でプラズマを発生する際には、前記ステージの周囲を覆うように設置されて、前記搬送口を閉塞しつつプラズマ発生領域を取り囲むことにより、プラズマの乱れを防止するシャッタを設けたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (2件)：