特許
J-GLOBAL ID：201103057065030743
Pb系ペロブスカイト型金属酸化物薄膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-318514
公開番号（公開出願番号）：特開2001-139329
特許番号：特許第4042276号
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板にPb、Zr及びTiを含有する金属酸化物薄膜形成用原料溶液を塗布して塗膜を形成した後、加熱することにより該金属酸化物を結晶化させてPb系ペロブスカイト型金属酸化物薄膜を形成する方法において、
1回の結晶化工程で形成される金属酸化物薄膜の厚さが結晶化後の膜厚で30nm以下となるように塗膜を形成させた後、結晶化工程を行い、この塗膜形成と結晶化工程を2回以上行う方法であり、
少なくとも最初の結晶化工程において、基板にPb及びTiからなる金属酸化物薄膜形成用原料溶液を塗布して下地膜を形成した後、該下地膜上にPb、Zr及びTiを含有する金属酸化物薄膜形成用原料溶液を塗布して前記塗膜を形成することを特徴とするPb、Zr及びTiを含むPb系ペロブスカイト型金属酸化物薄膜の形成方法。
IPC (5件)：
C01G 1/00 ( 200 6.01)
, C01G 25/00 ( 200 6.01)
, H01B 3/12 ( 200 6.01)
, H01L 41/187 ( 200 6.01)
, H01L 41/24 ( 200 6.01)
C01G 1/00 B
, C01G 25/00
, H01B 3/12 301
, H01L 41/18 101 D
, H01L 41/22 A
