特許
J-GLOBAL ID：201103057259334999
研磨用組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
佐々木 宗治
, 小林 久夫
, 木村 三朗
, 大村 昇
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266511
公開番号（公開出願番号）：特開2001-089749
特許番号：特許第4273475号
出願日： 1999年09月21日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 メモリーハードディスクに使用される磁気ディスク用基盤の研磨用組成物であって、
(a)水と、
(b)含有量が組成物の全重量を基準として0.001〜0.6重量%の、C12〜C18のアルキル基を持つポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸およびフェニル基またはフェニル基のベンゼン環にC1〜C10のアルキル基がつながった構造のアリール基を持つポリオキシエチレンアリールエーテルリン酸からなる群より選択される少なくとも1種類のリン酸エステル化合物と、
(c)前記(b)のリン酸エステル化合物以外の無機酸、有機酸およびそれらの塩類からなる群より選択される少なくとも1種類の研磨促進剤を、その含有量が、組成物の全重量を基準にして0.01〜30重量%と、
(d)酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素および二酸化マンガンからなる群より選択される少なくとも1種類の研磨材とを、含んでなる研磨用組成物。
IPC (3件)：
C09K 3/14 ( 200 6.01)
, G11B 5/84 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 200 6.01)
C09K 3/14 550 Z
, C09K 3/14 550 D
, G11B 5/84 A
, B24B 37/00 H
