特許
J-GLOBAL ID：201103057378853155
レーザ加工装置及びその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菊池 治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-247602
公開番号（公開出願番号）：特開2011-115853
出願日： 2010年11月04日
公開日（公表日）： 2011年06月16日
要約：
【課題】1台のレーザ発振器から出力したレーザ光を2つの異なる波長の基本波と高調波に分割し、それぞれのレーザ光を用いて同一目的の加工を行うことのできるレーザ加工装置及びその方法を提供する。【解決手段】レーザ施工装置は、レーザ光を出力するレーザ発振器1と、このレーザ発振器1から出力されたレーザ光が入力され基本波2と高調波4を発生する波長変換部3と、波長変換部3により発生した基本波2を伝送する基本波用光学系6と、波長変換部3により発生した高調波4を伝送する高調波用光学系7と、基本波用光学系6より伝送された基本波2と高調波用光学系7より伝送された高調波4とが入力されてレーザ光が合成されるレーザ光合成部10と、レーザ光合成部10により合成されたレーザ光が水を介して被加工物12に照射される集光レンズ11と、を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザ出力手段によりパルスレーザ光を出力するレーザ光出力ステップと、
このレーザ光出力ステップにおいて出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する高調波発生ステップと、
この高調波発生ステップにおいて発生した前記基本波が伝送される基本波伝送ステップと、
前記高調波発生ステップにおいて発生した前記高調波が伝送される高調波伝送ステップと、
前記基本波伝送ステップより伝送された前記基本波と前記高調波伝送光学系により伝送された前記高調波とを、同一の集光光学系によって集光し、水を介して被加工物に照射してアブレーション加工により前記被加工物に圧縮応力を付与するレーザ照射ステップと、
を有することを特徴とするレーザ加工方法。
IPC (4件)：
B23K 26/36
, B23K 26/067
, B23K 26/04
, B23K 26/00
B23K26/36
, B23K26/067
, B23K26/04 C
, B23K26/00 N
4E068AH00
, 4E068CA02
, 4E068CA08
, 4E068CA11
, 4E068CD03
, 4E068CJ07
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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