特許
J-GLOBAL ID：201103057586753504
光学面から汚染層を除去するための方法、洗浄ガスを生成するための方法、ならびに対応する洗浄および洗浄ガス生成の構造
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-532437
公開番号（公開出願番号）：特表2011-504294
出願日： 2007年11月06日
公開日（公表日）： 2011年02月03日
要約：
本発明は、原子状水素を含むことが好ましい洗浄ガスを汚染層(15)に接触させることによって、EUV反射光学要素(14)の光学面(14a)から汚染層(15)を少なくとも部分的に除去するための方法に関し、本方法は、汚染層(15)から物質を除去するために、汚染層(15)に向けて洗浄ガスの噴流(20)を送るステップと、汚染層(15)の厚さを表す信号を生成するために、汚染層(15)をモニタするステップと、汚染層(15)の厚さを表す信号をフィードバック信号として使用して、光学面(14a)に対して洗浄ガス噴流(20)を移動させることによって、洗浄ガス噴流(20)を制御するステップとを含んでおり、さらに対応する洗浄構造(19〜24)に関する。本発明は、洗浄ガス噴流(20)を生成するための方法、ならびに対応する洗浄ガス生成構造にも関する。
請求項（抜粋）：
EUV反射光学要素(9、14)の光学面(14a、9a)から汚染層(15、15’)を、好ましくは原子状水素(H・)を含む洗浄ガスを前記汚染層(15、15’)に接触させることによって、少なくとも部分的に除去するための方法であって、
前記汚染層(15、15’)から物質を除去するために、洗浄ガスの噴流(20、20b)を前記汚染層(15、15’)に向けて送るステップと、
前記汚染層(15、15’)の厚さを表す信号を生成するために、前記汚染層(15、15’)をモニタするステップと、
前記汚染層(15、15’)の前記厚さを表す前記信号をフィードバック信号として使用して、前記光学面(9a、14a)に対して前記洗浄ガス噴流(20、20b)を移動させることによって、前記洗浄ガス噴流(20、20b)を制御するステップとを含む、方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 19/00
, G02B 17/02
H01L21/30 531A
, H01L21/30 503G
, H01L21/30 514E
, G03F7/20 521
, G02B19/00
, G02B17/02
2H052BA02
, 2H052BA03
, 2H052BA12
, 2H087KA21
, 2H087NA02
, 2H087NA04
, 2H087RA45
, 2H087TA04
, 5F046AA18
, 5F046CB02
, 5F046GA03
, 5F046GA14
, 5F046GB01
, 5F046GB09
