特許

J-GLOBAL ID：200903053217264121

リソグラフィ投影装置の構成要素の表面を洗浄する方法、リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法および洗浄システム

発明者： レフィナス ピーター バッカー ,  ラルフ クルト ,  バシュティアン マシィアス メルテンス ,  マルクス ヴァイス ,  ヨハン トレンケラー ,  ヴォルフガンク ジンガー
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ ,  カール ツァイス エスエムテー アーゲー
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-425353
公開番号（公開出願番号）：特開2004-207740
出願日： 2003年12月22日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】リソグラフィ投影装置の構成要素の表面の洗浄システム、方法、リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法を提供する。【解決手段】リソグラフィ投影装置(1)において構成要素(101)の表面(104)の少なくとも一部から汚染(105)を除去するための洗浄システム(100)であって、前記表面の近傍に洗浄粒子を供給するための洗浄粒子供給器を具備し、この洗浄粒子供給器は、電界(107)を発生させるための電界発生器(106、V)を具備する。更に、リソグラフィ投影装置(1)の構成要素(101)の表面(104)の少なくとも一部から汚染(105)を除去するための方法。この方法は、リソグラフィ投影装置の少なくとも一部に電界を発生させるステップと、前記電界(107)によって汚染の近傍に洗浄粒子を供給するステップと、前記洗浄粒子と前記汚染との相互作用によって前記汚染を除去するステップと、を具備する。これによって、表面(104)から汚染(105)を除去する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置において構成要素の表面の少なくとも一部から汚染を除去するための洗浄システムであって、 前記表面の近傍に洗浄粒子を供給するための洗浄粒子供給器であって、電界を発生させるための電界発生器を具備する洗浄粒子供給器、 を具備することを特徴とする、洗浄システム。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 531Z ,  G03F7/20 503

Fターム (5件)：

2H097BA04 ,  2H097BA10 ,  2H097LA10 ,  5F046GA14 ,  5F046GA20

引用特許：

審査官引用 (12件)

• 特許第6192897号
  
• 露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-192455   出願人：松下電器産業株式会社
• X線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-295457   出願人：株式会社ニコン
• 荷電粒子ビーム装置およびその洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-116386   出願人：株式会社東芝
• 洗浄機能付き荷電ビーム照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-217878   出願人：株式会社東芝
• 洗浄機能付き荷電ビーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-059763   出願人：株式会社東芝
• 特開昭57-097625
  
• 特開平3-076211
  
• 電子線描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-003944   出願人：株式会社ニコン
• 散乱メンブレンマスク及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-102944   出願人：株式会社ニコン
• マスク清浄方法及びそれを用いるデバイス製造方法と電子ビーム露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-068034   出願人：株式会社ニコン
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-159164   出願人：株式会社東芝