物質分布計測装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野寿一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-268413
特許番号：特許第4183735号
出願日： 2007年10月15日
要約：

【課題】溶液の化学反応を行うマイクロ流路内の物質の反応分布もしくは物質の濃度分布を検出する装置を提供する。【解決手段】溶液中の物質の反応分布もしくは濃度分布を計測する物質分布計測装置1であって、半導体23上に作製される絶縁体22上に物質感応膜21を作製した物質検出プレート5と、該物質検出プレート5上に溶液の流路12を形成する流路形成部6と、前記溶液の電位を安定させる手段と、前記半導体23側から流路12側にパルスレーザー光9を照射する手段と、前記パルスレーザー光9を物質検出プレート5に対して2次元的に走査させる手段と、パルスレーザー光9を物質検出プレート5に照射することで発生するパルス電磁波の振幅強度を計測する手段と、前記振幅強度より、被検出物質を定性的もしくは定量的に計測して流路内の溶液中の物質の反応分布もしくは濃度分布を得る手段を備え、物質感応膜21が流路12の内壁面の一部を構成した。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

【請求項1】溶液中の物質の反応分布もしくは濃度分布を計測する物質分布計測装置であって、絶縁体と光吸収係数の逆数である光侵入長と同等の厚さを有する半導体とを備えた物質検出プレートと、該物質検出プレート上に溶液の流路を形成する流路形成部と、前記溶液の電位を安定させる手段と、前記流路の一側にフェムト秒レーザー光を照射する手段と、前記フェムト秒レーザー光を物質検出プレートに対して2次元的に走査させる手段と、該2次元的に走査させる手段により、前記フェムト秒レーザー光を前記物質検出プレートに照射することで発生するパルス電磁波の振幅強度を直接計測する手段と、前記振幅強度より、被検出物質を定性的もしくは定量的、かつ、連続的に計測して前記流路内の溶液中の物質の反応分布もしくは濃度分布を二次元マッピングとして得る手段を備え、物質感応膜が前記流路の内壁面の一部を構成したことを特徴とする物質分布計測装置。

IPC (3件)：

G01N 21/64 ( 200 6.01) , G01N 37/00 ( 200 6.01) , G01N 21/35 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G01N 21/64 Z , G01N 37/00 101 , G01N 21/35 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

センシング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-270050 出願人：キヤノン株式会社
センシング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-248561 出願人：キヤノン株式会社

引用文献：

審査官引用 (3件)

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