汚染された無機物質表層の除染方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河西祐一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158565
公開番号（公開出願番号）：特開2000-346990
特許番号：特許第3198301号
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】放射性物質や有害物質の浸透によって汚染された無機物質表層を除染する方法であって、対象とする無機物質の融点を下げる物質を、汚染表面に塗布し、その後に汚染した無機物質表層面に光エネルギーを照射することにより、表層を溶融してガラス化させ、次いで生成されたガラス層を剥離して行う、汚染された無機物質表層の除染方法。

IPC (2件)：