露光量モニタマスク、露光量調整方法及び半導体装置の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：堀口浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158955
公開番号（公開出願番号）：特開2000-310850
特許番号：特許第3761357号
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】一方向に配列形成された少なくとも3個のパターンを具備し、少なくとも1個のパターンは透過した露光光の照射強度分布が前記一方向に対して単調かつ連続的に変化する強度変化パターンを含み、前記強度変化パターンは露光装置の光学条件において解像しないピッチで前記一方向に対して直交する方向に複数個並べられたたパターン構成からなることを特徴とする露光量モニタマスク。

IPC (2件)：