特許
J-GLOBAL ID：201103060274318690
圧電体薄膜、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-159555
公開番号（公開出願番号）：特開2011-014820
出願日： 2009年07月06日
公開日（公表日）： 2011年01月20日
要約：
【課題】成膜回数を減少させて生産性を向上させ、製造コストを抑えた圧電体薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】カルボン酸が溶媒と安定化剤の役目を果たすので、酢酸鉛および有機金属化合物に対するカルボン酸の比率を減少させて、コロイド溶液71中の酢酸鉛および有機金属化合物の濃度を上げることを可能にできる。濃度の高いコロイド溶液71を塗布する塗布工程(S2)と、コロイド溶液71を乾燥して乾燥膜72を得る乾燥工程(S3)と、乾燥膜72を脱脂して無機膜73を得る仮焼成工程(S4)と、無機膜73を結晶化させる結晶化アニール工程(S5)を含む一連の工程によって得られる圧電体薄膜70の膜厚を厚くできる。したがって、所定の膜厚を得るための成膜回数を減少でき、生産性が向上し、製造コストを抑えた圧電体薄膜70の製造方法を得ることができる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
酸化鉛の原料としての酢酸鉛、鉛以外の金属の酸化物の原料としての有機金属化合物、カルボン酸およびポリエチレングリコールからなるコロイド溶液を基板上に塗布する工程と、
前記コロイド溶液を乾燥して、乾燥膜を得る工程と、
前記乾燥膜を脱脂して、無機膜を得る工程と、
前記無機膜を結晶化させる工程とを含む
ことを特徴とする圧電体薄膜の製造方法。
IPC (5件)：
H01L 41/24
, H01L 41/09
, H01L 41/22
, H01L 41/18
, B41J 2/16
H01L41/22 A
, H01L41/08 C
, H01L41/22 Z
, H01L41/18 101Z
, H01L41/08 J
, H01L41/08 L
, B41J3/04 103H
2C057AF93
, 2C057AG39
, 2C057AG44
, 2C057AG52
, 2C057AG55
, 2C057AP14
, 2C057AP57
, 2C057AQ02
