パターン形成用テンプレートの作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (19件)：蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 勝村紘 , 河井将次 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-216074
公開番号（公開出願番号）：特開2011-066238
出願日： 2009年09月17日
公開日（公表日）： 2011年03月31日
要約：

【課題】第1のテンプレートからインプリント法により第2のテンプレートを作製することができ、且つ第2のテンプレートにおけるメインパターンと周辺パターンとの間の相対的な位置精度誤差を劣化させることなく、アライメントマークを精度良く形成する。【解決手段】第1のテンプレートからインプリント法により第2のテンプレートを作製するためのパターン形成用テンプレートの作製方法であって、メインパターン領域に凹凸からなるメインパターンが形成され、周辺領域に凹凸からなる周辺パターンが形成された第1のテンプレートの凹凸パターンを、インプリント法を用いて第2のテンプレート用基板31に転写し、次いで第2のテンプレート用基板31のメインパターン領域32をマスクした後、第2のテンプレート用基板31の周辺領域36をエッチング処理により後退させて、第2のテンプレート30を形成する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

メインパターン領域に凹凸からなるメインパターンが形成され、周辺領域に凹凸からなる周辺パターンが形成された第1のテンプレートの凹凸パターンを、インプリント法を用いて第2のテンプレート用基板に転写する工程と、前記第2のテンプレート用基板の前記メインパターン領域に相当する領域をマスクした後、前記第2のテンプレート用基板の前記周辺パターンに相当する領域をエッチング処理により後退させて、第2のテンプレートを形成する工程と、を含むことを特徴とするパターン形成用テンプレートの作製方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 502D

Fターム (2件)：

5F046AA28 , 5F146AA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

モールド、パターン形成方法、及びパターン形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-137319 出願人：キヤノン株式会社
転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-512749 出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
光学素子、マスター原器、樹脂マスター、樹脂成形品および金型
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-109823 出願人：三洋電機株式会社, 三洋オプテックデザイン株式会社

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