特許
J-GLOBAL ID：200903070760556312
転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-512749
公開番号（公開出願番号）：特表2004-504714
出願日： 2001年07月17日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
平板状の物質または転写リソグラフィ・プロセス用の半導体ウエハを含む基板の表面に液体をディスペンスする自動液体ディスペンス方法とシステムが開示されている。本ディスペンス方法は液体ディスペンサ・チップと基板との間の相対的な動きを生成する基板ステージと液体ディスペンサを使用する。さらに、パターン化されていない平坦なテンプレートを用いて基板表面を平坦にする方法と装置も開示されている。
請求項（抜粋）：
パターン化されたテンプレートを使用して、基板上にパターンを形成する方法であって、
活性化光硬化液が所定のパターンで基板に塗布され、かつ、基板上の活性化光硬化液の表面積が、パターン化されたテンプレートの表面積より小さくなるように、基板の一部に活性化光硬化液を塗布するステップと、
塗布された活性化光硬化液がギャップを実質的に充填するようにパターン化されたテンプレートが基板に対して間隔を隔てて配置され、パターン化されたテンプレートと基板の間にギャップが生成されるよう、パターン化されたテンプレートと基板を互いに間隔を隔てて位置決めするステップと、
活性化光硬化液が実質的に硬化し、硬化した活性化光硬化液中に、パターン化されたテンプレートのパターンが形成されるように、活性化光硬化液に活性化光を照射するステップと、
パターン化されたテンプレートと硬化した活性化光硬化液を分離するステップとを含む方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
出願人引用 (26件)
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特開昭52-026171
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特開昭58-082726
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特開昭61-137246
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審査官引用 (26件)
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特開昭52-026171
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光学記録媒体の製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-249273
出願人：ソニー株式会社
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特開平2-289311
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引用文献：
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