特許
J-GLOBAL ID：201103062540573254
断面観察方法及び集束イオンビーム装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
久原 健太郎
, 内野 則彰
, 木村 信行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-173979
公開番号（公開出願番号）：特開2002-367554
特許番号：特許第4667650号
出願日： 2001年06月08日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 試料ステージに載置された試料の表面にイオンビームを照射し、前記表面の観察像を取得するステップと、
前記表面の一部に前記イオンビームを照射し、前記表面に対して垂直方向に断面を形成するステップと、
前記試料ステージを傾斜させるステップと、
前記断面を観察するために輝度調整量を前記断面の適正輝度になるように変更するステップと、
前記断面に前記イオンビームを照射し、前記断面の断面像を取得するステップと、からなる断面観察方法。
IPC (4件)：
H01J 37/22 ( 200 6.01)
, G01B 21/00 ( 200 6.01)
, G01B 21/30 ( 200 6.01)
, H01J 37/28 ( 200 6.01)
H01J 37/22 502 E
, G01B 21/00 L
, G01B 21/30
, H01J 37/28 Z
