特許
J-GLOBAL ID：200903025918400050
FIB-SEM装置における試料断面観察方法およびFIB-SEM装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-013945
公開番号（公開出願番号）：特開平11-213935
出願日： 1998年01月27日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】 FIB加工した試料を装置の外に取り出すことなく、十分なコントラストで解像度良く走査電子顕微鏡により観察することができるFIB-SEM装置における試料断面観察方法およびFIB-SEM装置を実現する。【解決手段】 FIBカラム1内のイオン銃2からイオンビームを発生させ、イオンビームを試料7に照射して試料を加工する。この加工により開口を形成した後、ステージ18を180°回転させ、更にステージ18を大きく傾斜させる。このステージの回転と傾斜により、試料7の開口20の断面部分DをFIBカラム1に対面させることができる。この状態で試料7に照射するイオンビームの電流量を減少させる。この結果、試料の加工断面部分では、nm単位で断面表層の縦方向への加工を行うことができる。このような表面処理を行った後、試料の加工断面部分のSEM像を観察する。
請求項（抜粋）：
試料に集束イオンビームを照射する機能と、集束イオンビームによって加工された試料断面に電子ビームを照射して走査電子顕微鏡像を観察することができるSEM機能とを備えたFIB-SEM装置において、比較的大きな電流量のイオンビームを試料に照射して試料をエッチングして加工し、加工後試料を回転と傾斜させて加工断面をイオンビームに対面させ、加工断面に比較的小さな電流量のイオンビームを照射し、その後試料を回転と傾斜させて加工断面の走査電子顕微鏡像を観察するようにしたFIB-SEM装置における試料断面観察方法。
IPC (5件)：
H01J 37/317
, G01N 1/28
, G01N 1/32
, H01J 37/28
, H01L 21/66
H01J 37/317 D
, G01N 1/32 B
, H01J 37/28 B
, H01L 21/66 J
, G01N 1/28 G
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (10件)
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