特許
J-GLOBAL ID：201103062631144186
電子材料洗浄用ガス溶解水の調製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内山 充
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257851
公開番号（公開出願番号）：特開2001-079376
特許番号：特許第4438077号
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 所定温度、所定圧力における所望濃度のガス溶解水を得る方法であって、ガスを溶解させる水をあらかじめ脱気して溶存ガスの飽和度を低下させた後、該所定温度より低い温度に温度調整した水に、該所望濃度に相当する量のガスを気体溶解膜モジュールに供給して該ガスを温度調整した水に溶解したのち、得られたガス溶解水を所定温度まで加温することを特徴とする電子材料洗浄用ガス溶解水の調製方法。
IPC (2件)：
B01F 1/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
B01F 1/00 A
, H01L 21/304 647 Z
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (12件)
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