特許

J-GLOBAL ID：201103063047636855

研磨使用済み液の再生方法

発明者： 前島 邦明 ,  宮部 慎介
出願人/特許権者： 日本化学工業株式会社
代理人 (5件)： 曾我 道治 ,  池谷 豊 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  望月 孜郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-253669
公開番号（公開出願番号）：特開2002-075929
特許番号：特許第4585100号
出願日： 2000年08月24日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 コロイダルシリカを主成分とする研磨材により半導体基板あるいはその上に形成された被膜を化学機械研磨した後に生じる研磨使用済み液の再生方法において、 研磨使用済み液を1〜10μの目開きの濾過器で濾過して化学機械研磨工程で混入した粒子を除去する第1工程と、前記第1工程で生じた濾過液を分画分子量15000以下の限外濾過膜を使用して限外濾過してコロイダルシリカの濃度を再使用に必要な濃度以上に濃縮する第2工程と、前記第2工程で得られた濃縮液の濃度を維持したまま純水を加えながら限外濾過を続け液中の溶解シリカ濃度と溶解金属濃度を下げる第3工程と、損失した組成成分を前記第3工程で得られた濾過液に追加して研磨使用前の組成に戻す第4工程とを有する研磨使用済み液の再生方法。

IPC (6件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B01D 61/14 ( 200 6.01) ,  B01J 45/00 ( 200 6.01) ,  B24B 57/02 ( 200 6.01) ,  C02F 1/72 ( 200 6.01) ,  C02F 9/00 ( 200 6.01)

FI (11件)：

H01L 21/304 622 E ,  B01D 61/14 500 ,  B01J 45/00 Z ,  B24B 57/02 ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 9/00 502 D ,  C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 503 G ,  C02F 9/00 504 E

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 研磨剤粒子の回収方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-249851   出願人：栗田工業株式会社, 日本電気株式会社
• 研磨材の回収装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-192937   出願人：栗田工業株式会社
• アルミニウムディスクの研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-197818   出願人：日産化学工業株式会社