特許
J-GLOBAL ID：201103063077676525
プラズマプロセス装置およびプラズマ制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
深見 久郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-389064
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188154
特許番号：特許第3830814号
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 プラズマを用いた処理を行うための処理室と、
前記処理室にマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、
前記マイクロ波導入手段により前記処理室に導入されるマイクロ波の伝送経路上に配置され、長軸を有し、前記マイクロ波の伝送経路を構成する複数の開口部が形成されたスロット部材と、
前記開口部の長軸方向において、前記開口部の開口面積と位置とを変更することが可能なスロット制御手段とを備え、
前記スロット制御手段は、
前記開口部の長軸方向における両端にそれぞれ配置され、前記開口部の長軸方向に沿って移動可能な1組のスロット面積制御部材と、
前記スロット面積制御部材のそれぞれを移動させるための駆動部材とを含み、
前記スロット制御手段は、すべての前記開口部のそれぞれに対応して個別に形成されている、プラズマプロセス装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 D
, H05H 1/46 B
