特許
J-GLOBAL ID：201103063945738176
パターン欠陥検査方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-362216
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176942
特許番号：特許第3752935号
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 紫外レーザを発射するレーザ光源と、該レーザ光源から発射された紫外レーザの可干渉性を低減する可干渉低減手段と、対物レンズを有して前記可干渉低減手段を通過した紫外レーザを前記対物レンズを介して表面に回路パターンが形成された試料に照射し前記試料を照明する照明光学系手段と、該照明光学系手段で照明された前記試料の像を撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像して得た前記試料の画像を処理して前記試料上に形成された回路パターンの欠陥を検出する画像処理手段とを備えたパターン欠陥検査装置であって、前記対物レンズの瞳面と共役な位置に設けたスクリーンとレンズとTVカメラを有して前記可干渉低減手段を通過した紫外レーザを前記スクリーンに照射して発生させた蛍光を前記レンズで拡大して前記TVカメラで撮像することにより前記紫外レーザによる前記対物レンズの瞳面における照明パターンを可視化して観察するための観察手段を更に備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (3件)：
H01L 21/66 ( 200 6.01)
, G01B 11/30 ( 200 6.01)
, G01N 21/956 ( 200 6.01)
H01L 21/66 J
, G01B 11/30 A
, G01N 21/956 A
