特許
J-GLOBAL ID：201103064222786241
ミクロメカニカルデバイスを製造する方法と装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
市東 篤
, 市東 禮次郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-547904
特許番号：特許第4475548号
出願日： 1999年03月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ミクロメカニカルデバイスを製造する方法であって、
(a)マスクを有する基板を、該マスクの開口部を通じて、所望の深さまでエッチングして、基板内に、側壁と底面を有する深溝を形成し、
(b)前記基板とマスクとの露出表面上に、一般式CYFXのフルオロカーボンポリマーである保護物質層又は一般式CYHXの保護物質層を蒸着し、
(c)前記保護物質を前記底面から選択的に除去し、
(d)気体又は蒸気のフッ素含有エッチング剤を使用して、前記底面をプラズマの非存在下でエッチングする、
各ステップから成ることを特徴とする方法。
IPC (6件)：
B81C 1/00 ( 200 6.01)
, B81B 3/00 ( 200 6.01)
, G01P 15/125 ( 200 6.01)
, H01L 29/84 ( 200 6.01)
, G01C 19/56 ( 200 6.01)
, G01P 9/04 ( 200 6.01)
B81C 1/00
, B81B 3/00
, G01P 15/125
, H01L 29/84 Z
, G01C 19/56
, G01P 9/04
