特許
J-GLOBAL ID：201103064274616727

異常原因特定システムおよびその方法

発明者：
小野 眞

小野 眞 について

, 
馬場 毅

馬場 毅 について

, 
馬越 雅士

馬越 雅士 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (3件)： 小川 勝男 ,  高橋 明夫 ,  田中 恭助
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-019537
公開番号（公開出願番号）：特開2000-222033
特許番号：特許第3665215号
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 複数の製造設備で構成される製造ラインに製品ウエハを流して順々に各製造設備において所定のプロセス条件でプロセス処理させて製品ウエハを製造する際、前記所定の製造設備までプロセス処理された製品ウエハ上に発生した異物や欠陥を検査して該異物や欠陥の画像データを基に該異物や欠陥に関する特徴量データを取得する検査装置を有し、該検査装置で取得した異物や欠陥に関する特徴量データを基に異物や欠陥の異常の発生原因を特定する異常原因特定システムであって、 予め、前記製造ラインにおける前記製造設備別にダミーウエハを流して製品ウエハと同一のプロセス条件でプロセス処理し、該製造設備別にプロセス処理したダミーウエハ上に発生した異物や欠陥を検査装置で検査して該異物や欠陥の画像データを基に前記製造設備別に起因する異物や欠陥に関する特徴量データを各製造設備に対応させた参照データとして作成して記憶装置に登録する参照データ作成手段と、 前記検査装置で取得された製品ウエハにおける異物や欠陥に関する特徴量データを、前記参照データ作成手段で予め記憶装置に登録された各製造設備に対応させた参照データと照合して相関関係を抽出し、該抽出した相関関係において最も相関の強い製造設備に対応させた参照データから、前記製品ウエハにおける異物や欠陥の異常の発生原因としての製造設備を特定する照合手段とを有することを特徴とする異常原因特定システム。
IPC (2件)：
G05B 23/02 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G05B 23/02 302 Y ,  H01L 21/66 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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