特許
J-GLOBAL ID：201103064328252572
密封されたチャンバを有するウエハー対を製造する方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 竹内 茂雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-541738
特許番号：特許第4434488号
出願日： 1999年03月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】第1のシリコンウエハー(13)の第1の側上に熱層を成長させる工程と、
熱層上に窒化物層を蒸着する工程と、
複数の装置の窒化物層上に第1の金属層(26)の一部を蒸着し、パターニング処理して除去する工程と、
複数の装置の窒化物層及び第1の金属層(26)上に第2の金属層(27)の一部を蒸着し、パターニング処理し除去する工程と、
第1のシリコンウエハー(13)の第1の側上のシリコンウエハー及び所定の層から、及び第1のシリコンウエハーの第2の側から材料をパターニング処理して除去し、第1のシリコンウエハー及び第1のシリコンウエハー上の所定の層を貫通して複数の排気ポート(11)を形成する工程と、
第2のシリコンウエハー(14)の第1の側からマスキング処理し材料を除去し第2のシリコンウエハーの第1の側に複数のくぼみ部(16)を形成する工程と、
複数のくぼみ部(16)のそれぞれの周囲に第2のシリコンウエハーの第1の側上に密封リング(18)を形成する工程と、
第2のシリコンウエハー(14)の第1の側の隣に第1のシリコンウエハー(13)の第1の側を配置する工程とを包有し、
各密封リング(18)は、第1のシリコン層の第1の側上で層の少なくとも一と接触させ、複数のくぼみ部(16)のそれぞれは複数の装置の少なくとも一を含むチャンバ(16)とし、各密封リング(18)は複数の排気ポート(11)の少なくとも一を囲み、第1及び第2のウエハー(13,14)が組をなすウエハーとして接合されてなる、蒸着層(12)で栓がされ密封されたチャンバを有するウエハー対を製造する方法。
IPC (2件)：
H01L 37/02 ( 200 6.01)
, G01J 1/02 ( 200 6.01)
