特許
J-GLOBAL ID:201103064863149268
ガスバリア性包装材料
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-398968
公開番号(公開出願番号):特開2002-254553
特許番号:特許第3858692号
出願日: 2001年12月28日
公開日(公表日): 2002年09月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 樹脂フィルム基材と、該樹脂フィルム基材上に蒸着により形成された金属又は金属化合物の薄膜からなるガスバリア性薄膜とを含むガスバリア性積層体であって、前記ガスバリア性薄膜上に膜厚50〜500オングストロームのポリイミド膜が形成されていることを特徴とするガスバリア性包装材料。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (5件)
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酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-024578
出願人:東洋紡績株式会社
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フレキシブル回路基板
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-022301
出願人:三井東圧化学株式会社
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特開昭63-166961
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多層膜の形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-289881
出願人:日本真空技術株式会社
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特許第3766877号
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審査官引用 (6件)
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酸化硅素系薄膜積層ガスバリアフィルム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-024578
出願人:東洋紡績株式会社
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特許第3766877号
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フレキシブル回路基板
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-022301
出願人:三井東圧化学株式会社
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特開昭63-166961
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特開昭63-166961
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多層膜の形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-289881
出願人:日本真空技術株式会社
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