トリフェニレン化合物の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (9件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 矢澤清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-400424
公開番号（公開出願番号）：特開2003-201263
特許番号：特許第4021663号
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】1,2-ジ置換ベンゼンと酸化剤とを反応させてトリフェニレン化合物を製造するにおいて、該1,2-ジ置換ベンゼンが下記一般式(1)で表される化合物であり、有機溶媒と該有機溶媒に対し体積比で1/100〜15/100の比率で添加された水との混合溶媒を使用し、かつ添加されたプロトン酸の存在下で反応させることを特徴とする下記一般式(2)で表されるトリフェニレン化合物の製造方法。 (式(1)中、R1およびR2は同一でも異なっていてもよく、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアシルオキシ基、アルキル基で置換されたアミノ基、アルキル基で置換されたカルボニルアミノ基、アルキル基で置換されたスルホニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキル基で置換されたカルバモイル基、またはアルキル基で置換されたカルバモイルオキシ基を表す。また、R1とR2は互いに結合して、炭素原子、酸素原子および窒素原子からなる群の少なくとも1つと共に環を形成しても良い。) (式中R1およびR2はそれぞれ上記と同じ意味を有する。)

IPC (9件)：

C07C 41/30 ( 200 6.01) , C07C 2/86 ( 200 6.01) , C07C 15/38 ( 200 6.01) , C07C 43/20 ( 200 6.01) , C07D 295/12 ( 200 6.01) , C07D 487/14 ( 200 6.01) , C07D 493/12 ( 200 6.01) , C07D 493/20 ( 200 6.01) , C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (9件)：

C07C 41/30 , C07C 2/86 , C07C 15/38 , C07C 43/20 A , C07D 295/12 Z , C07D 487/14 , C07D 493/12 , C07D 493/20 , C07B 61/00 300

引用特許：

出願人引用 (4件)

ディスコチック液晶として有用な置換トリフェニレンの合成
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-501498 出願人：ザユニバーシティオブリーズ
2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-197476 出願人：大塚化学株式会社
トリフエニレン化合物の合成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-128598 出願人：富士写真フイルム株式会社

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引用文献：

出願人引用 (1件)

SYNTHSIS, 1994, pp477-478

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