特許

J-GLOBAL ID：201103066539251478

セリウム系研摩材及び研摩材スラリー並びにセリウム系研摩材の製造方法

発明者： 伊藤 昭文 ,  望月 直義 ,  牛山 和哉 ,  渡辺 広幸
出願人/特許権者： 三井金属鉱業株式会社
代理人 (1件)： 田中 大輔
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-065952
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265931
特許番号：特許第3945745号
出願日： 2001年03月09日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】酸化セリウムを主成分とするセリウム系研摩材において、 平均粒径が0.2〜5μmであり、 研摩材を構成する研摩材粒子が、ケイ素無機化合物、アルミニウム無機化合物、又は、これらの混合物の少なくともいずれかからなる被覆層で覆われており、 前記被覆層は、研摩材原料又はセリウム系研摩材を水を主成分とする分散媒に分散させてなるスラリーに、水溶性のケイ素化合物又はアルミニウム化合物の少なくともいずれかを含有する処理溶液を混合することにより形成されるものであり、 研摩材粒子重量に対するケイ素無機化合物中のケイ素元素含有率と、研摩材粒子重量に対するアルミニウム無機化合物中のアルミニウム元素含有率との合計が0.01〜5wt%であることを特徴とするセリウム系研摩材。

IPC (3件)：

C09K 3/14 ( 200 6.01) ,  B24B 37/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C09K 3/14 550 C ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 622 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 研磨材、その製造方法及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-313621   出願人：三井金属鉱業株式会社
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-174590   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• ハードディスク基板の研磨用組成物及びこれを用いた研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-194957   出願人：三菱化学株式会社
• 研磨剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-174476   出願人：シーシーアイ株式会社