特許
J-GLOBAL ID:201103066996076479

廃棄樹脂の減容無害化処理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 浩
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-127020
公開番号(公開出願番号):特開2001-305287
特許番号:特許第4032606号
出願日: 2000年04月27日
公開日(公表日): 2001年10月31日
請求項(抜粋):
【請求項1】原子力施設内で発生する使用済みのイオン交換樹脂を乾燥する樹脂乾燥手段と、乾燥した樹脂を定量して供給する定量供給手段と、供給された乾燥樹脂をプラズマを用いて減容処理するプラズマ減容処理手段と、減容処理された処理済み樹脂を回収する回収手段と、回収された処理済み樹脂を安定固化する安定化手段と、樹脂乾燥手段とプラズマ減容手段から発生するガスを無害化する無害化手段と、これらの六つの手段を管理、制御する管理・制御手段とを備えた廃棄樹脂の減容無害化処理システムであって、 前記プラズマ減容手段が、円筒状金属容器の上端に絶縁性の高周波供給窓を備え、この高周波供給窓と対向してヒータを内蔵する加熱テーブルを回転および上下動可能に備え、容器下部側壁に真空遮蔽バルブで開閉される樹脂供給口と樹脂回収口ならびに真空排気口を備え、前記高周波供給窓を支える上部フランジにフランジ内周面を起点として円筒中心軸に垂直な仮想面内に仮想される小円に接する方向に向かう第1の酸素ガス供給口と高周波供給窓の真空側面上の仮想小円に接し円筒中心軸方向に向かう第2の酸素ガス供給口とをそれぞれ複数個備え、高周波供給窓の大気側には螺旋状の高周波コイルを備えて構成されるプラズマ処理室と、前記真空排気口に真空遮蔽バルブを介して繋がる真空排気装置と、二つの酸素ガス供給口を介して酸素を供給する酸素供給源と、前記高周波コイルに高周波電力を供給する高周波電源と、加熱テーブルに内蔵されたヒーターに電力を供給する加熱ヒーター電力供給装置とを備えてなり、酸素供給源より酸素を供給しつつ真空排気装置によって真空排気を行って円筒状金属容器の内部を所定の低気圧とし、加熱テーブルを回転して樹脂を攪拌しつつ加熱して加熱による樹脂の加熱分解とRF電界加速による酸素のプラズマ加熱を同時に並行して進行させ、分解ガスと高温酸素との燃焼反応を安定的に制御することにより樹脂供給口より供給される乾燥廃棄樹脂を灰化減容するよう構成されていることを特徴とする廃棄樹脂の減容無害化処理システム。
IPC (5件):
G21F 9/30 ( 200 6.01) ,  B09B 3/00 ( 200 6.01) ,  C08J 11/12 ( 200 6.01) ,  G21F 9/02 ( 200 6.01) ,  G21F 9/32 ( 200 6.01)
FI (7件):
G21F 9/30 571 F ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 301 H ,  C08J 11/12 ,  G21F 9/02 501 Z ,  G21F 9/32 B ,  G21F 9/32 C
引用特許:
審査官引用 (8件)
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