特許
J-GLOBAL ID：201103067021879135

2次元パターン生成装置

発明者：
榎本 保宏

榎本 保宏 について


出願人/特許権者：
ヤマハ株式会社

ヤマハ株式会社 について


代理人 (1件)： 伊丹 勝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-353479
公開番号（公開出願番号）：特開2001-209813
特許番号：特許第4214644号
出願日： 1999年12月13日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 塗りつぶし処理された対象図形の画像データが記憶されるメモリと、 前記塗りつぶし処理される対象図形を構成するベクトルを入力し、前記各ベクトルと各走査ラインとの交点を計算すると共に、算出された各交点と前記対象図形の塗りつぶし領域の走査ライン上に設定されたそれぞれが直線上に並びその直線が前記対象図形の少なくとも一点で交わるような基準点との間の塗りつぶし処理すべきスパンを算出し、この算出されたスパンに相当する前記メモリ上の画像データを反転して再描画する描画処理手段と を備え、 前記描画処理手段は、前記対象図形の頂点であって、その頂点によって連結される2つのベクトルがその頂点を通る走査ラインを境としてそれぞれ異なる側に存在する場合、先のベクトルの終点について当該走査ライン上で行った描画処理を、次のベクトルの始点について当該走査ライン上では行わないものであること を特徴とする2次元パターン生成装置。
IPC (2件)：
G06T 11/40 ( 200 6.01) ,  G09G 5/36 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G06T 11/40 200 D ,  G09G 5/36 530 X
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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