特許
J-GLOBAL ID:201103068619528228
酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
佐藤 一雄
, 小野寺 捷洋
, 中村 行孝
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-183596
公開番号(公開出願番号):特開2001-011613
特許番号:特許第4577924号
出願日: 1999年06月29日
公開日(公表日): 2001年01月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 酸化亜鉛を含有する原料粉末混合物を成形し、1350〜1600°Cの温度で焼結することによって、酸化亜鉛を含有する相対密度95%以上のスパッタリングターゲットを製造するに際し、前記原料粉末に複数の酸化物形態をとり得る希土類元素を含む希土類酸化物からなる色むら防止剤を添加することを特徴とする、スパッタリングターゲットの製造方法。
IPC (2件):
C23C 14/34 ( 200 6.01)
, C04B 35/453 ( 200 6.01)
FI (2件):
C23C 14/34 A
, C04B 35/00 P
引用特許: