熱処理方法及び熱処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-238900
公開番号（公開出願番号）：特開2003-051439
特許番号：特許第3755814号
出願日： 2001年08月07日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理体を載置する載置台の表面から熱を輻射して上記被処理体に熱処理を施す熱処理方法において、同心円上の複数箇所に温度検出手段を設けた測定用基板を予め加熱処理させた時の温度情報を、上記測定用基板の熱処理を開始してから熱処理温度が安定するまでの時間の間で検出して、上記熱処理の制御をする制御手段に記憶する工程と、上記複数箇所のそれぞれで検出された上記温度情報の温度と上記安定するまでの時間との間の積算熱量を求めると共に、求められた積算熱量に基づいて、上記複数箇所それぞれの積算熱量の差を求める工程と、を有し、上記熱処理における上記被処理体の加熱処理温度が安定した後に、上記積算熱量の差を相殺させるように上記載置台の同心円上に複数形成された熱源の各出力量を制御することを特徴とする熱処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/30 ( 200 6.01) , H05B 3/00 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 567 , G03F 7/30 501 , H05B 3/00 310 E

引用特許：

出願人引用 (5件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-004222 出願人：東京エレクトロン株式会社
加熱装置,加熱装置の評価法及びパタ-ン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-081635 出願人：株式会社東芝
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-357411 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (5件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-004222 出願人：東京エレクトロン株式会社
加熱装置,加熱装置の評価法及びパタ-ン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-081635 出願人：株式会社東芝
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-357411 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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