特許
J-GLOBAL ID：201103070417018702
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人青莪
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-245736
公開番号（公開出願番号）：特開2011-091334
出願日： 2009年10月26日
公開日（公表日）： 2011年05月06日
要約：
【課題】真空雰囲気中での経時変化を抑制しながら、スループットの低下を招くことなく基板に各種処理を施すことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】複数の処理室A乃至Gと、これら処理室間で基板Sを搬送する搬送手段RA、RBを備え、基板を複数の処理室間で順次搬送し、複数の処理工程を経て基板に各種処理を施す基板処理装置Mにおいて、各処理工程での処理時間及び処理室相互間での搬送手段による基板搬送時間の少なくとも一方により、いずれかの処理室に基板を搬送した直後に所定の処理を開始すると、処理後に基板の搬送を待つ待ち時間が生じる処理室を特定処理室として判定する。特定処理室から後工程のために搬送される処理室を後工程処理室とし、特定処理室での処理終了直後に、後工程処理室に基板が搬送されるように、特定処理室での処理開始前に待機時間を付加し、後工程処理室に基板が搬送された直後に所定処理が開始されるようにする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の処理室と、これら複数の処理室間で基板を搬送する搬送手段と、各処理室にて所定の処理を実施するために作動する作動部品及び搬送手段の作動を制御する制御手段と、を備え、基板を複数の処理室間で順次搬送し、複数の処理工程を経て基板に各種処理を施す基板処理装置において、
各処理工程での処理時間及び処理室相互間での搬送手段による基板搬送時間の少なくとも一方により、いずれかの処理室に基板を搬送した直後に所定の処理を開始すると、処理後に基板の搬送を待つ待ち時間が生じる場合に、この待ち時間が生じる処理室を特定処理室として判定する判定手段と、
この特定処理室から後工程のために搬送される処理室を後工程処理室とし、この特定処理室での処理終了直後に、後工程処理室に基板が搬送されるように、特定処理室での処理開始前に待機時間を付加する付加手段とを備え、
制御手段は、後工程処理室に基板が搬送された直後に所定の処理が開始されるように制御することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/677
, B65G 49/07
, C23C 14/56
H01L21/68 A
, B65G49/07
, C23C14/56 G
4K029AA06
, 4K029AA24
, 4K029BA03
, 4K029BA17
, 4K029BA60
, 4K029BB02
, 4K029BC03
, 4K029BD02
, 4K029CA05
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC34
, 4K029KA01
, 4K029KA09
, 5F031CA02
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031GA03
, 5F031GA44
, 5F031GA48
, 5F031GA50
, 5F031MA04
, 5F031MA06
, 5F031MA29
, 5F031PA03
