特許
J-GLOBAL ID：200903041032775539

クラスタツールの処理システム及び滞在時間監視プログラム

発明者：
西中山 康彦

西中山 康彦 について

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仲山 陽一

仲山 陽一 について

, 
関戸 幸一

関戸 幸一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-296047
公開番号（公開出願番号）：特開2006-108549
出願日： 2004年10月08日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】 クラスタツールの処理システムにおいて搬送効率ないしスループットを向上させること。【解決手段】 この処理システムでは、クラスタツール内で同時に稼動する複数のたとえばプロセス・モジュールPM1,PM2,PM3,PM4におけるウエハ滞在時間をそれらのプロセス・モジュールの処理時間の中で最大のもの(最大処理時間)と同じ長さに設定し、トランスファ・モジュールTMの真空搬送ロボットRB1が各プロセス・モジュールPM1,PM2,PM3,PM4に対する1回のアクセスでピック&プレース動作により処理済のウエハWiを搬出してそれと入れ替わりに次のウエハWi+1を搬入する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
搬送機構の周囲に前記搬送機構のアクセス可能な複数のプロセス・モジュールを配置し、前記搬送機構により一群の被処理体を一つずつ前記複数のプロセス・モジュールに順次搬送して各被処理体に一連の処理を施すクラスタツールの処理システムであって、 前記複数のプロセス・モジュールについてモジュール内に各被処理体が滞在する時間を実質的に同じ長さに設定し、 各被処理体が一巡するのと同じ順序で前記搬送機構が前記複数のプロセス・モジュールを巡回し、各々の前記プロセス・モジュールに対する1回のアクセスで処理済みの被処理体を搬出してそれと入れ替わりに後続の別の被処理体を搬入する処理システム。
IPC (2件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/02
FI (2件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/02 Z
Fターム (25件)：
5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA44 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031KA13 ,  5F031KA14 ,  5F031MA04 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA30 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA02 ,  5F031PA03 ,  5F031PA30
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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