物体処理システム、物体処理方法、露光装置、露光方法、塗布現像装置、塗布現像方法及びデバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 西和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-242600
公開番号（公開出願番号）：特開2009-076579
出願日： 2007年09月19日
公開日（公表日）： 2009年04月09日
要約：

【課題】均一なパターンを形成することが可能な物体処理システム、物体処理方法、露光装置、露光方法、塗布現像装置、塗布現像方法及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】物体に第1処理を行う第1処理装置と、前記物体に第2処理を行い前記第1処理装置に前記物体を供給する第2処理装置とを備えた物体処理システムであって、前記第1処理装置と前記第2処理装置との能力差によって生じる処理時間の差に基づいて、前記第2処理前の前記物体を待機させる制御装置を備えることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

物体に第1処理を行う第1処理装置と、前記物体に第2処理を行い前記第1処理装置に前記物体を供給する第2処理装置とを備えた物体処理システムであって、前記第1処理装置と前記第2処理装置との能力差によって生じる処理時間の差に基づいて、前記第2処理前の前記物体を待機させる制御装置を備えることを特徴とする物体処理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/677

FI (2件)：

H01L21/30 562 , H01L21/68 A

Fターム (12件)：

5F031CA02 , 5F031GA02 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031PA03 , 5F046AA17 , 5F046CD05 , 5F046JA22 , 5F046KA10 , 5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (1件)

リソグラフィ装置用の搬送システム及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-047175 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

審査官引用 (12件)

基板搬送方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-155272 出願人：キヤノン販売株式会社
レジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-283376 出願人：沖電気工業株式会社
ワーク投入装置及びその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-321947 出願人：キヤノン株式会社

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