パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川洋子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-397569
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195527
特許番号：特許第3476081号
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】酸発生剤を含有する化学増幅型ホトレジスト組成物以外のホトレジスト組成物を用いて形成されたホトレジストパターンを有する基板上に被覆し、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間隔を狭小せしめた後、当該被覆を実質的に完全に除去して微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、(a)水溶性ポリマーと、(b)その構造中に少なくとも1個の窒素原子を有する水溶性架橋剤を含有することを特徴とするパターン微細化用被覆形成剤。

IPC (2件)：