特許
J-GLOBAL ID：201103071364948296
情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
坂本 徹
, 原田 卓治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-083139
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273444
特許番号：特許第4267743号
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】主結晶相が2珪酸リチウムのSiO2-Al2O3-Li2O系ガラスセラミックスである情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板において、研磨加工における研磨液中の研磨材が、ZrO2および/またはAl2O3であり、前記研磨液のpHが8〜11の範囲であることを特徴とする情報記憶媒体用ガラスセラミックスの研磨加工方法。
IPC (8件)：
G11B 5/84 ( 200 6.01)
, C09K 3/14 ( 200 6.01)
, B24B 1/00 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 200 6.01)
, B24D 3/00 ( 200 6.01)
, C03C 19/00 ( 200 6.01)
, C03C 3/087 ( 200 6.01)
, C03C 3/097 ( 200 6.01)
G11B 5/84 A
, C09K 3/14 550 D
, B24B 1/00 D
, B24B 37/00 H
, B24D 3/00
, C03C 19/00 Z
, C03C 3/087
, C03C 3/097
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (12件)
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