水素ガス製造充填装置及び電気化学装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：逢坂宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-277790
公開番号（公開出願番号）：特開2003-082486
特許番号：特許第3719178号
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】電気分解によって水素ガスを発生させる電気分解装置部と、前記電気分解装置部で発生した前記水素ガスを圧縮する加圧部と、この圧縮された前記水素ガスを水素ガスタンクに充填する充填部とを有する、水素ガス製造充填装置であって、前記加圧部が、前記水素ガスを電気化学的に圧縮する電気化学圧縮部と加圧電流制御部とからなっていて、前記電気化学圧縮部が、前記水素ガスをプロトンに分解する第1極と、前記第1極で発生した前記プロトンを再び水素ガスに転化する第2極と、これらの両極間に挟持されたプロトン伝導体とからなり、前記加圧電流制御部によって前記加圧部の加圧状態に応じた電流を前記第1極及び第2極間に供給し、フラーレン分子と、カーボン粉末からなるクラスターと、径が0.001〜0.5μm、長さが1〜5μmのカーボンナノチューブ、又は径が0.001〜0.5μm、長さが1〜5μmのカーボンファイバーとからなる群より選ばれた少なくとも1種からなる物質を主成分とし、この物質を構成する炭素原子にプロトン解離性の基を導入してなる誘導体によって前記プロトン伝導体が構成され、このプロトン伝導体を介して前記第1極で発生したプロトンを前記第2極へ移動させる、水素ガス製造充填装置。

IPC (4件)：

C25B 1/02 , C01B 3/02 , C25B 13/04 , H01M 8/06

FI (4件)：

C25B 1/02 , C01B 3/02 H , C25B 13/04 301 , H01M 8/06 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

水素燃料供給システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-120197 出願人：株式会社タツノ・メカトロニクス
電気化学的ガス圧縮機
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-039605 出願人：三菱電機株式会社
水素燃料発電システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-084518 出願人：三洋電機株式会社

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