特許
J-GLOBAL ID：201103072203986160
ジルコニウム酸化物および薄膜の製造方法
発明者：
八尾 滋
八尾 滋 について
名寄せID(JGPN) 200901100642408545 ですべてを検索
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角田 剛久
角田 剛久 について
名寄せID(JGPN) 200901100514789498 ですべてを検索
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出願人/特許権者：
宇部興産株式会社
宇部興産株式会社 について
名寄せID(JGON) 201551000097714530 ですべてを検索
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公報種別：
特許公報
出願番号（国際出願番号）：
特願平11-005774
公開番号（公開出願番号）：
特開平11-268913
特許番号：
特許第4096435号
出願日：
1999年01月12日
公開日（公表日）：
1999年10月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】硫酸ジルコニウムをアルコールに溶解し、その溶液中に基材を浸漬させ、該基材上にジルコニウム酸化物薄膜を形成させることを特徴とするジルコニウム酸化物薄膜の製造方法。
IPC (1件)：
C01G 25/02 ( 200 6.01)
FI (1件)：
C01G 25/02
引用特許：
審査官引用 (8件)
特開平1-108164
セラミックス多孔質薄膜及びその製造方法
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平5-341562
出願人：
工業技術院長
特開平3-126603
結晶性含水酸化ジルコニウム担持多孔性吸着材の製造方法
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平9-193280
出願人：
工業技術院長
液相堆積を用いた半導体装置における材料層の形成方法
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平4-084822
出願人：
モトローラ・インコーポレイテツド
金属酸化物薄膜のパターン形成法
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平3-281627
出願人：
ローム株式会社
セラミックスコーティング薄膜の製造方法
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平6-038467
出願人：
三菱マテリアル株式会社
内燃機関用排ガス浄化触媒及び排ガス処理方法
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平8-039295
出願人：
株式会社日立製作所
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