特許
J-GLOBAL ID：201103073695421878

固体撮像装置、および、その製造方法、電子機器

発明者：
檜山 晋

檜山 晋 について

, 
渡辺 一史

渡辺 一史 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-082488
公開番号（公開出願番号）：特開2011-216623
出願日： 2010年03月31日
公開日（公表日）： 2011年10月27日
要約：
【課題】混色の発生などを抑制し、撮像画像の画像品質等を向上する。【解決手段】半導体層101の裏面において受光面JSおよび遮光膜60が設けられた部分を被覆するように、第1の反射防止膜501を設ける。これと共に、裏面において受光面JSが設けられた部分を被覆するように第1の反射防止膜501の上に、第2の反射防止膜502を形成する。遮光膜60については、第2の反射防止膜502の上に設けずに、第1の反射防止膜501の上に設ける。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
入射光を受光面で受光する複数の光電変換部が、複数の画素に対応するように設けられている半導体層と、 前記半導体層にて前記入射光が入射する入射面の側に設けられており、前記入射光の反射を防止する反射防止膜と、 前記半導体層にて前記入射面の側に設けられており、前記入射光が前記受光面へ通過する開口が形成されている遮光膜と を有し、 前記反射防止膜は、 前記入射面において前記受光面および前記遮光膜が設けられた部分を被覆する第1の反射防止部と、 前記入射面において前記受光面が設けられた部分を少なくとも被覆するように、前記第1の反射防止部の上に形成された第2の反射防止部と を含み、 前記遮光膜は、前記第2の反射防止部の上に設けられておらず、前記第1の反射防止部の上に設けられている、 固体撮像装置。
IPC (2件)：
H01L 27/14 ,  H04N 5/369
FI (2件)：
H01L27/14 D ,  H04N5/335 690
Fターム (25件)：
4M118AA05 ,  4M118AB01 ,  4M118BA14 ,  4M118BA18 ,  4M118CA04 ,  4M118CA33 ,  4M118CA34 ,  4M118DD04 ,  4M118EA14 ,  4M118FA06 ,  4M118FA26 ,  4M118GA02 ,  4M118GB03 ,  4M118GB07 ,  4M118GB11 ,  4M118GC08 ,  4M118GC14 ,  4M118GD04 ,  5C024AX01 ,  5C024BX01 ,  5C024CY47 ,  5C024EX52 ,  5C024GX03 ,  5C024GX24 ,  5C024GY31
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM