特許
J-GLOBAL ID：201103073847054361

光ディスクの製造方法

発明者：
山登 一広

山登 一広 について

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村上 裕

村上 裕 について

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福岳 悟

福岳 悟 について


出願人/特許権者：
パイオニア株式会社

パイオニア株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 元彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-043257
公開番号（公開出願番号）：特開2001-236694
特許番号：特許第3682763号
出願日： 2000年02月21日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】互いに深さの異なるプリピット及びプリグルーブを有する光ディスクの製造方法であって、ガラス基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、前記ガラス基板及びフォトレジスト層を互いに相対的に移動させつつ、前記フォトレジスト層に強度変調したレーザビームをスポットとして照射する工程と、前記フォトレジスト層を現像する工程と、前記フォトレジスト層を加熱する熱処理工程と、を含み、前記レーザビームを照射する工程は前記レーザビームをしてシリンドリカルレンズ及び対物レンズを通過せしめることによりスポットの形状を楕円形にする工程を含み、前記楕円形の短軸方向が前記ガラス基板に対する前記レーザビームの移動方向と略平行であることを特徴とする光ディスクの製造方法。
IPC (1件)：
G11B 7/26
FI (1件)：
G11B 7/26
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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