成膜装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本敬敏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-314748
公開番号（公開出願番号）：特開2003-124123
特許番号：特許第3756100号
出願日： 2001年10月12日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に成膜処理を施す処理チャンバと、前記処理チャンバにプロセスガスを供給するプロセスガス供給ラインと、前記処理チャンバ内のガスを排出する排気ラインと、前記排気ラインに設けられて所定の温度に予め加熱された加熱ガスを供給する加熱ガス供給ラインと、を備えた成膜装置であって、前記排気ラインは、前記処理チャンバのガス排出口に連通されて排気通路の断面形状を変化させる排気キャップと、前記排気キャップの下流側に連通される排気管と、を有し、前記加熱ガス供給ラインは、前記排気キャップに連通された加熱ガス供給管を有する、ことを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：