放電プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-298026
公開番号（公開出願番号）：特開2003-093869
特許番号：特許第3823037号
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】電圧印加電極と接地電極からなる対向電極を有し、前記対向電極の少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体で被覆され、前記電極間に電界を印加することにより前記対向電極間に発生するグロー放電プラズマを、プラズマ発生空間外に配置された基材に導いて処理を行う処理装置であって、前記電圧印加電極の基材に対向する面が、固体誘電体で覆われており、上記基材に対向する面の固体誘電体の厚みは、上記電極対向面の固体誘電体の厚みよりも厚いことを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (1件)：