特許
J-GLOBAL ID：201103074482674809

化学増幅ポジ型レジスト、およびそれを用いたパターン形成方法

発明者：
前田 勝美

前田 勝美 について

, 
岩佐 繁之

岩佐 繁之 について

, 
長谷川 悦雄

長谷川 悦雄 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-128838
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321772
特許番号：特許第3353825号
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(1)で示される単位を有する重合体、および露光により酸を発生する光酸発生剤を少なくとも含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト。;;化1::(上式において、R1は水素原子またはメチル基、Gは1,2-ジオール構造を有する脂環族炭化水素基を表わす。)
IPC (2件)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM