干渉測長機

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田研二 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-216463
公開番号（公開出願番号）：特開2001-241915
特許番号：特許第3484146号
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ベースと、干渉光源を有し、前記ベースに固定される基準真空槽と、前記干渉光源からの光を反射する反射鏡を有し、前記ベース上を前記光の光路に沿って移動する移動真空槽と、前記ベースの前記基準真空槽と前記移動真空槽との間に固定され、前記光路の一部をなす緩衝真空槽と、を有し、前記緩衝真空槽と前記移動真空槽との間の光路は、その内部が真空に維持され第1弾性係数を有する第1弾性部材で構成され、前記緩衝真空槽と前記基準真空槽との間の光路は、その内部が真空に維持され前記第1弾性係数以下の第2弾性係数を有する第2弾性部材で構成されることを特徴とする干渉測長機。

IPC (1件)：