特許

J-GLOBAL ID：201103075937430837

環式オレフィン重合体および添加剤を含むフォトレジスト組成物

発明者： プシュカラ・ラーオ・ヴラナシー ,  ロバート・ディー・アレン ,  トマス・アイ・ウォロウ ,  ジュリアン・オピッツ ,  リチャード・エイ・デピエトロ ,  マーガレット・シー・ローソン ,  アン=マリー・ミューハーター ,  ジョーゼフ・エフ・マニスカルコ ,  マハムード・エム・ホジステ ,  ジョージ・エム・ジョーダモ ,  イトウ・ヒロシ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-065165
公開番号（公開出願番号）：特開2000-298350
特許番号：特許第3418971号
出願日： 2000年03月09日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】(a)ノルボルネン-t-ブチルエステル(NB-t-BE)とノルボルネンカルボン酸(NB-CA)を含有するノルボルネン共重合体と、(b)感光性酸発生剤と、(c)t-ブチル-3-トリフルオロアセチルリソコレート、アダマンタン-1-カルボン酸-t-ブチルエステル、および2,5-ビス(アダマンタン-1-カルボキシルオキシ)-2,5-ジメチルヘキサンからなる群から選択された実質的に透明な、かさの大きい疎水性添加剤とを含む、フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (6件)

• デバイスの製造方法及びレジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-057221   出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-352621   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-128606   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-300372   出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• ポジチブ処理感放射線混合物およびレリーフパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-293332   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-074506   出願人：日本電気株式会社