特許

J-GLOBAL ID：201103078194547490

汚染された無機物質表層に適用するレーザ除染システム

発明者： 三森 武男 ,  宮島 和俊 ,  岡根 章五 ,  明道 栄人 ,  鎌田 博文 ,  ウィグナラージャ・シバクマラン ,  佐藤 俊治 ,  古賀 達也 ,  山本 智之 ,  藤田 哲也
出願人/特許権者： 科学技術庁原子力局長
代理人 (1件)： 河西 祐一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158570
公開番号（公開出願番号）：特開2000-346991
特許番号：特許第3151667号
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】汚染された無機物質表層に光エネルギーを照射するレーザ照射ヘッドと、光エネルギーをレーザ照射ヘッドヘ伝送するグラスファイバーと、グラスファイバーに光エネルギーを伝送するレーザ発振装置と、レーザ照射ヘッドに取り付けられた二次生成物回収フードと、二次生成物回収フードに一端が接続された二次生成物回収ホースと、二次生成物回収ホースの他端に接続された二次生成物回収装置と、レーザ照射ヘッドを駆動する駆動機構と、駆動機構を垂直方向及び水平方向に移動する移動装置と、レーザ発振装置、二次生成物回収装置、駆動装置及び移動装置を制御する制御装置とを備え、レーザ発振装置、二次生成物回収装置及び制御装置は、除染対象エリアから隔離した場所に配置し、制御装置は、移動装置と駆動機構を制御してレーザ照射ヘッドと二次生成物回収フードを垂直方向及び水平方向に移動し、除染対象エリア内の除染対象位置を変えながら無機物質表層に光エネルギーを照射して汚染した微粉体を周辺に飛散することなく無機物質表層を溶融し、自然冷却によって凝固させてガラス化し、凝固生成されたガラス層は冷却により体積収縮により付着力が低下し、剥離して二次生成物回収フードで回収することを特徴とする、汚染された無機物質表層に適用するレーザ除染システム。

IPC (4件)：

G21F 9/28 551 ,  G21F 9/28 501 ,  G21F 9/28 511 ,  G21F 9/30 535

FI (4件)：

G21F 9/28 551 A ,  G21F 9/28 501 Z ,  G21F 9/28 511 Z ,  G21F 9/30 535 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

• レーザ除染装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-113291   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 特開平4-168400
  
• 表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-270869   出願人：ブリティッシュヌークリアフュエルズパブリックリミテッドカンパニー
• レーザによる表面付着物の除去方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016181   出願人：理化学研究所
• 特開平4-168400
  
• 特開平4-109200
  
• レーザーによる除染方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-246054   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 特開昭63-241399