特許
J-GLOBAL ID：201103079193750027

電磁クラッチのアーマチュア用基盤のプレス方法

発明者：
中島 一夫

中島 一夫 について


出願人/特許権者：
株式会社ピーエヌ

株式会社ピーエヌ について


代理人 (1件)： 小林 正治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-333252
公開番号（公開出願番号）：特開2002-137024
特許番号：特許第3580769号
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】金属素材を順送式プレス加工のパンチでプレスして不要部を打ち抜いて、中央穴(13)、その外側の数個の小穴(11)、それら小穴(11)間のスリット穴(14)が形成されたアーマチュア用基盤(1)を金属素材に成形し、形成されたアーマチュア用基盤(1)の中央穴(13)、小穴(11)、スリット穴(14)の周縁部(2)をプレス機械により押し跡が付くまで加圧して、前記不要部の打ち抜きによりそれら周縁部(2)に発生したバリを押し潰したり、折ったりして除去し、小穴(11)の周縁部(2)はその周囲よりも一段低くなるまで加圧して小穴(11)の外周にそれよりも径の大きな低部(5)を形成し、その後に、アーマチュア用基盤(1)を金属素材から抜き落とすことを特徴とする電磁クラッチのアーマチュア用基盤のプレス方法。
IPC (8件)：
B21D 28/16 ,  B21D 19/00 ,  B21D 22/02 ,  B21D 28/02 ,  B21D 28/24 ,  B21D 28/26 ,  B21D 53/26 ,  B21D 53/88
FI (8件)：
B21D 28/16 ,  B21D 19/00 C ,  B21D 22/02 A ,  B21D 28/02 Z ,  B21D 28/24 Z ,  B21D 28/26 ,  B21D 53/26 Z ,  B21D 53/88 Z
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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